Stanovisko hodnotící komise
k návrhu Matematicko-fyzikální fakulty UK na jmenování uchazeče
doc. RNDr, Ivana Ošťádala, CSc.
profesorem pro obor: Fyzika - Fyzika povrchů a rozhraní
Složení komise:
Předseda:
Členové:
Prof. RNDr. Ladislav Skrbek, DrSc.Matematicko-ťyzikální fakulta UK Praha
Prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc.Matematicko-fyzikální fakulta UK Praha
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc.CEITEC VUT Brno
prof. RNDr, Vladimír Čech, Ph.D.Fakulta chemická VUT Brno
RNDr. Antonín Fejfar, CSc.Fyzikální ústav AV ČR Praha
Doporučení od: Prof, Dr. Thomas MichelyUniversitat zu Kóln
Prof. Alastair B. McLeanUniversity QueenKingston, Canada
Prof. Leszek JurczyszynUniwersytet WroclawskiWrocíaw, Poland
Generováno systémem Habilion
1. Základní údaje o uchazeči
1.1. Jméno, příjmení (dřívější příjmení), tituly, místo a datum narozeni
doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc., Šumperk, 02.02.1956
1.2. Průběh vzdělání a získání vědeckých hodností
Získané tituly
doktor přírodních věd: 1981, Univerzita Karlova v Praze, Matematicko-fyzikální fakulta
docent: 1998, Univerzita Karlova v Praze, Matematicko-fyzikální fakulta
kandidát věd: 1987, Univerzita Karlova v Praze, Matematicko-fyzikální fakulta
1.3. Průběh zaměstnáni
1980-dosud, Univerzita Karlova v Praze, Matematicko-fyzikální fakulta
1980-1983, aspirant
1983-1987, odborný pracovník
1986-1995, odborný asistent
1996-1999, samostatný vědecký pracovník
1990-1996, hospodář katedry
1993-dosud, vedoucí skupiny tenkých vrstev
1999-dosud, docent, Katedra fyziky povrchů a plazmatu
l .4. Zahraniční pobyty
1989-1990, Velká Británie, Londýn, King's College London, Department of Physics, DielectricGroup, prof. Robert M. Hill, stipendium Britské rady, 10 měsíců, měření střídavé vodivostinespojitých vrstev Pt, navázání spolupráce s profesorem R.M. Hillem.
1992, Velká Británie, Leicester, DeMontfort University (l měsíc), Department of Physics, prof.R. Pritchard, příprava zařízení STM; Londýn, King's College (l měsíc), Department of Physics, prof.R.M. Hill, programy na zpracování měření střídavé vodivosti, měření na strukturách Al-SiOx-Al,
studijní pobyty v rámci projektu Tempus JEP 1213/1991-93, červen-červenec 1992.
1993, Velká Británie, Lancaster University, King's College London, 2 měsíce, studijní pobyt propřípravu přednášek (zaměřených na techniku STM, měření elektrického šumu a relaxací) a seznámenís organizací a náplní výuky fyziky na navštívených univerzitách, grant Tempus IMG-93-CZ-2381,červen-červenec 1993.
strana 2
2. Pedagogická činnost
2.0. Výkon funkce garanta studijního programu nebo člena (předsedy) rady garanta bakalářskéhonebo magisterského studijního programu anebo člena (předsedy) oborové rady doktorskéhostudijního programu
1990-2000, člen oborové rady doktorského studijního programu F5 - Fyzikální elektronika,
2000-dosud, člen oborové rady doktorského studijního programu fyzika, předseda oborové radyF5 - fyzika povrchů a rozhraní,
2000-dosud, místopředseda komise K7 pro obhajoby doktorských disertačních prací,
2.1. Výuka v pregraduálním studiu
Přednášky(hodin ročně)
Semináře(hodin ročně)
Praktickávýuka - stáže,cvičení,laboratornípráce (hodinročně)
CŽV (hodinročně)
Akad. rok2008 / 2009
130
0
52
0
Akad. rok2009/2010
104
0
67
0
Akad. rok2010/2011
130
0
57
0
Akad. rok2011 /2012
104
0
52
0
Akad. rok2012/2013
130
0
52
0
Akad. rok2013/2014
52
0
52
0
2.2. Vedení absolventů pregraduálního a doktorského studia
2.2.1. Vedení bakalářských magisterských prací
Bc. vedení
2 íoho absolventi
Mgr. vedeni
z toho absolventi
Akad. rok2008 / 2009
3
1
0
0
Akad. rok2009/2010
2
1
1
0
Akad. rok2010/2011
1
1
2
1
Akad. rok2011 /2012
0
0
2
1
Akad. rok2012/2013
0
0
1
1
Akad. rok2013/2014
1
0
0
0
strana 3
2.2.2. Vedení doktorandůJméno doktoranda
Michael Kučera
Filip Rozbořil
Josef Mysliveček
Tomáš Jarolímek
Jakub Javorský
Libor Léčko
Martin Setvín
Karel Majer
Téma doktorské práce
Studium adsorpcea růstu nanostrukturkovů na povrchukřemíku pomocí STM
tudium manipulaceadatomů na površíchkřemíku pomocí STM
Scanning TunnelingMicroscopy studyof Initia! Stages ofGrowth of Metals onSi(111)-{7x7)Surface
Early Stages ofAg HeteroepitaxialGrowth on Si(111)-(7x7) Surface
Early stages of indiumgrowth on theSi(IOO)surface
Studium šumových aemisních vlastností M-I-M struktur
Interaction of groupIII and IVmetals withSi(100) surface intemperature rangefrom 20 to 800K
Záznam procesů napovrších křemíkupomocí STM
Zahájení studia
2011
2012
1997
1997
2006
1992
2006
2013
Ukončení studia
2000
2005
2011
1996
2012
Způsob ukončení
studium probíhá
studium probíhá
absolvent
absolvent
absolvent
absolvent
absolvent
studium probíhá
2.3. Stručná charakteristika hlavních vyučovacích předmětů
Fyzika II. - Elektřina a magnetismus, NOFY018, Přednáška základního kurzu výuky obecnéfyziky bakalářského studia na Matematicko-fyzikální fakultě.
Proseminář z elektrodynamiky, NOFY011, přednáška doplňující základní kurz Elektřiny amagnetismu o další vybrané problémy a aplikace v současné fyzice, důraz na aktuální fyzikální
problémy.
Fyzika II. - Elektřina a magnetismus, NUFY101, Přednáška základního kurzu fyziky určená prostudenty učitelství fyziky.
Statistika a teorie informace ve fyzice, NEVF143, Přednáška pro magisterské studium fyzikyzaměření Fyzika povrchů a ionizovaných prostředí, zabývá se náhodnými procesy, měřením azpracováním náhodných signálů, obsah přednášky úzce souvisí s fyzikálními problémy řešenými vrámci diplomových prací studijní specializace.
Rádkovací mikroskopie-STM, AFM, NEVF106, Přednáška pro magisterské studium fyzikyzaměřené na fyziku povrchů a pevných látek, úvod do problematiky mikroskopických technik
strana 4
umožňujících měření s atomárním rozlišením - skenovací tunelové mikroskopie a mikroskopie
atomárních sil.
Metody fyziky povrchů a tenkých vrstev II, NEVF516, Přednáška určená studentůmdoktorského studia zaměření 4F5-fyzika povrchů a rozhraní, přehled mikroskopických technik aanalýz využívaných v současnosti ve fyzice povrchů, důraz na nejnovější poznatky a používanémetodiky ve fyzice nanostruktur a nanomateriálů.
2.4. Autorství učebnic a dalších studijních pomůcekUčebnice a skripta
Atlasy
e-learningové programy
Specifické studijní pomůcky
3. Vědecko-výzkumná činnost
3.1. Publikace vědecko-vvzkumného charakteru a tvůrčího charakteru
monografie
kap. v monografiích
periodika s IF
rec. časopisy bez IF
řeč. sborníky bez IF
krií. edice pramenů
koment. překlady
české a slovenské
celkem
0
1
0
6
1
0
0
posí. 5 let
0
0
0
0
0
0
0
hlavní autor
0
1
0
2
1
0
0
cizojazyčné
celkem
0
0
41
1
14
0
0
posl. 5 let
0
0
11
0
1
0
0
hlavní autor
0
0
6
0
4
0
0
3.2. Vydavatel monografie
3.3. Nejvýznamnější práce uchazeče
Ošťádal I., Kocán P., Sobotík P., Pudl J., Direct observation of long-range assisted formationof Ag clusters on Si(lll)7x7, Phys. Rév. Lett, 95(14): Art. No. 146101 (4 pages), 2005. (IF 7.943,cit: 29);
První experimentální záznam průběhu adsorpce a růstu klastrů pro téměř nepohyblivé adatomyna povrchu - pomocí skenovaní tunelové mikroskopie během depozice kovu. Potvrzení existencedaleko-dosahové interakce mezi atomy adsorbátu.
Mysliveček J., Sobotík P., Ošťádal 1., and Jarolínek T., Unconventional features of Ag epitaxyon 81(111)7*7 surface, Phys. Rév. B, 63(4): Art. No. 045403 (5 pages), 2001. (IF 3.767, cit: 33);
Propojení růstových experimentů za různých podmínek s kinetickými Monte Carlo simulacemirůstu - první určení difúzních parametrů a vazebních energií pro studovaný systém.
Sobotík P., Kocán P., Ošťádal L, Direct observation of Ag intercell hopping on the Si(l 11 )-(7*7)surface, Surf. Sci., 537(1-3): L442-446, 2003. (IF 1.838, cit: 20);
strana 5
Určení parametrů povrchové difúze ze záznamu pohybu atomů pomocí STM při různýchteplotách — poprvé pro daný systém.
Mysliveček J., Strózecka A., Steffl J., Sobotík R, Ošťádal L, and Voigtlander B., Structure of theadatom electron band of the Si(l l l)-7x? surface, Phys. Rév. B, 73(16): Art. No. 161302(R) (4 pages),2006. (IF 3.767, cit: 25); Podrobná studie elektronové struktury povrchu křemíku s rekonstrukcí 7*7a vlivu teploty na průběh naměřených spekter v důsledku pronikání pole do polovodiče.
Setvín M., Mutotnbo P., Ondráček M., Majcik Z., Švec M., Cháb V., Ošťádal L, Sobotík P.,Jelínek P., Chemical Identification of Single Atoms in Heterogeneous IH-IV Chains on Si(lOO)Surface by Means of nc-AFM and DFT Caículations, ACS Nano 6(8): 6969-6976, 2012. (IF12.062, cit: 5); Spojení experimentálních a teoretických přístupů pro spolehlivou identifikaci typujednotlivých atomů — poprvé pro heterogenní nanostruktury kovů na Si, které mohou obsahovat jakhomogenní tak smíšené dimery.
3.4. Citace
3.4.1. Celkový počet citací dle WOS bez a u točitá číPozn.: Za autocitaci je považováno, je-li uchazeč na seznamu autorů citovaného i citujícího díla.
3.4.2. Počet citovaných prací dle WOS
3.4.3. Počet citací prací uchazeče vydaných v posledních pěti letech dle WOS bezautocitaci
3.4.4. H-index uchazeče dle WOS
265
39
20
12
3.4.5, Údaje 3.4.1 až 3.4.4 dle jiné metodikymetodika
celkový počet citací bez autocitaci
poceí citovaných prací
počet citaci prací uchazeče vydaných v posledních pěti letech bez autocitaci
H-index uchazeče
3.5. Celkové hodnocení publikační činnosti uchazeče
Za nejvýznamnější publikace se spoluautorstvím doc. RNDr. L Ošťádala, CSc., lze považovatpůvodní vědecké články v odborných časopisech s vysokým IF, zejména v ACS NANO (Ix, IF 12),Physical Review Letters (Ix, IF7,9), Physical Review B (llx, IF3,8) aE (Ix, IF2,3) a Surface Science(12x, IF1,8), celkově jde podle Web of Science o 47 prací. Na jeho publikace bylo k 31.12. 2013 265cizích citací (k 15.5.2014 přibyly další 4), hodnota Hirschova indexu h=12. Tyto publikace odrážejífakt, že doc. Ošťádal založil výzkumnou skupinu zaměřenou na rastrovací tunelovací mikroskopiia její využití při studiu povrchů a nanostruktur. Od dob konstrukce prvního mikroskopu tým doc.Ošťádala využil mikroskop k provedení řady experimentů s uspořádáním atomů kovů na křemíkovýchpovrších. Mezi podstatné výsledky patří popís uspořádání stříbra na rekonstruovaném povrchuSi(lll)7x7. Publikované výsledky jsou vždy opřeny o důkladnou fyzikální analýzu a doplněnysimulacemi metodou Monte Carlo, které dovolily určit parametry mikroskopických dějů na povrchu.
strana 6
Protože téměř všechny původní vědecké práce uvedené v seznamu publikací (kromě Cl-1,
Cl-2 a C3-1), jakož i kapitola v monografii byly publikovány se spoluautorstvím doc. RNDr. P.Sobotíka, CSc. ze stejného pracoviště MFF UK, vyžádala si komise jejich vyjádření k podílu na těchtospolečných publikacích, které uvádí, že experimentální data byla získána pomocí STM vyvinutých
společně oběma autory, měřící hlava STM - Ivan Ošťádal, řídicí elektronika a ovládání - P. Sobotík
a že se oba autoři ve srovnatelné míře podíleli na formulování řešených problémů, interpretaci dat apřípravě získaných výsledků k publikaci.
Vzhledem k uvedeným skutečnostem, délce odborné kariéry uchazeče, s přihlédnutím kespecifice oboru a poměrně nevysokému počtu cizích citací (20) na práce za posledních pět let hodnotíkomise publikační činnost (zejména citační ohlas) doc. RNDr. I. Ošťádala spíše jako průměrnou, avšakvyhovující požadavkům pro jmenování profesorem.
3.6. Řešitelství grantů, výzkumných záměrů a center
3.6.1. ŘešitelRoky realizace
2006-2008
1997-1999
1997-1999
1999-2001
2001-2003
1993-1995
Název a číslo grantu, VZ nebo VC
In-vivo STM study of atomically resolved processes at growíh of metalnanostrucíures on Si(100) surfaces, 202/06/0049
STM study of epitaxiai thin metal films, GAUK-34/97
STM investigation of initial síages of metal epitaxy on Si(001 ) andSi(1 1 1 ) surfaces, 202/97/1 1 09
In-vivo STM study of growth of Ag (Pb) on Si(111) surface attemperatures 100-400K, 147/1999/B FYZ/MFF
Study of metal heíeroepiíaxy on Si surfaces, 202/01/0928
STM and STS study of structure and electronic properties at surfaces,GAUK-293
Poskytovatel
GAČR
GAUK
GACR
GAUK
GAČR
GAUK
3.6.2. SpoluřešitelRoky realizace Název a číslo grantu. VZ nebo VC Poskytovatel
3.6.3. Člen řešitelského týmuRoky realizace
2010-2012
2009-2011
2003-2005
Název a číslo grantu, VZ nebo VC
Studium bimeíaiických nanostruktur na povrchu Si(100) v atomárnímměřítku, P204/1 0/0952
Růst uspořádaných nanostrukíur kovů IIIA skupiny na povrchuSi(111)-5x5,202/09/P033
Prostorově rozlišená rastrovací tunelová spektroskopie kovů napovrchu Si, 202/03/0792
Poskytovatel
GAČR
GAČR
GAČR
3.7. Autorství (případně spoluautorstvi) patentů
3. 7.1. PatentyPatenty
podané
přijaté
v České republice v zahraničí (kde? - EU, USA, JV Asie, ...)
strana?
3.7.2. Patenty aplikované v praxi (stručná charakteristika)Licenční smlouva pro
v jednání
uzavřena
Českou republiku zahraničí (kde? - EU, USA, JV Asie, ...)
3.8. Stručná charakteristika hlavních témat vědecko-výzkumné činnosti uchazeče
Příprava a studium nanostruktur kovů na površích křemíku - studium morfologie a elektronovéstruktury pomocí skenovaní tunelové mikroskopie (STM) a spektroskopie (STS), vliv morfologie naelektronovou strukturu;
přímé pozorování procesů adsorpce, povrchové difúze a nukleace s atomárním rozlišenímpomocí STM - experimentální stanovení parametrů procesů na atomární úrovni, manipulace atomy;
studium vlivu podmínek na kinetiku růstu - Monte Carlo simulace povrchových procesů;
elektrický transport, relaxace a šum v tenkovrstvových systémech a na rozhraních kov -dielektrikum.
Vývoj a konstrukce zařízení STM a systémů pro ultravakuové experimenty s využitím STM.
Doc. Ivan Ošťádal patří k úspěšným zakladatelům rastrovací tunelové mikroskopie (STM)v České republice. V prvních letech své výzkumné činnosti se v této oblasti věnoval zejménakonstrukci vlastního mikroskopu STM, a to zejména jeho mechanické části. Zde uplatil především svéfyzikální znalosti i technický cit pro přesnou mechaniku. Takto zvolená cesta, vynucená nedostatkemfinancí k zakoupení komerčního zařízení, byla spojena s řadou technických a organizačních úskalía z počátku pochopitelně vedla i k méně intenzivní publikační činnosti. Na druhé straně umožnilaIvanu OŠťádalovi lépe proniknout do podstaty této fascinující techniky a získat parametry vyvíjenéhozařízení na špičkové úrovni. Existence mikroskopu dosahujícího atomárního rozlišení umožnilaIvanu OŠťádalovi kolem sebe vytvářet skupinu studentů a začít systematický výzkum povrchů toutotechnikou.
Byla postupně zdokonalena elektronická řídící jednotka zařízení, vyvinuty napařovací cely ain siru metody pro depozici povrchových superstruktur (např. Pb) a zahájeny práce na numerickýchmodelech pro simulaci povrchových procesů.
Témata, kterým se doc. Ošťádal dosud věnoval ve své vědecké a odborné činnosti lze shrnoutdo následujícího přehledu:
• rozvoj techniky rastrovací tunelové mikroskopie (STM) a spektroskopie (STS);
• rozvoj mikroskopie v blízkém poli s rastrující sondou (SPM);
• vytvoření pracoviště zabývajícího se konstrukcí a využitím technik STM/STS pro analýzu
povrchů;
• vytváření nanostruktur kovů na površích křemíku pro studium morfologie a elektronovéstruktury pomocí STM/STS, přímé pozorování procesů adsorpce, povrchové difúze a nukleace satomárním rozlišením pomocí STM, manipulace atomy;
• rozvoj kinetických Monte Carlo simulací pro povrchové procesy;
strana 8
• vývoj a konstrukce zařízení STM a systémů pro ultravakuové experimenty s využitím STM;
• rozvoj sledování elektrického transportu, relaxace a šumu v tenkovrstvových systémech a narozhraních kov/dielektrikum.
Doc. Ošťádal prokázal schopost samostatně rozvíjet vlastní výzkumou činnost a dosahovat
kvalitní mezinárodní úrovně. Nastíněný vývoj skupiny rovněž dokládá jeho organizační schopnostizaložit a budovat kvalitní výzkumný tým.
4. Další tvůrčí činnost relevantní k oboru jmenování
4. l. Další profesní kvalifikace
4.1.1. Dosažená kvalifikace v oboru a datum dosažení (atestace, advokátní zkoušky apod.)
4.1.2. Výlučnost práce v oboru (provádění zvláště náročných výkonů, zavedení nových metod čizdokonalení stávajících atd.)
Založení první laboratoře skenovací tunelové mikroskopie (STM) v zemi, vývoj a konstrukcevlastních STM zařízení (laboratoř je v současnosti jedním ze dvou českých pracovišť umožňujícíchcelou škálu STM měření v ultravakuu a experimenty v širokém rozsahu teplot - vedle pracoviště veFZU AVČR vybaveném komerčními STM Omicron).
Autor dvou ultravakuových měřících hlav STM, spoluautor dvou systémů STM úspěšněvyužívaných pro experimenty ve skupině tenkých vrstev na KFPP.
Zavedení a ověření metodiky experimentu „in-vivo" - záznam povrchových procesů satomárním rozlišením během depozice „pod hrot STM" - pro případ velmi malé pohyblivostideponovaných adatomů.
4.2. Autorství významných uměleckých děl či organizace tvůrčích akcí
4.2.1. Nejvýznamnější díla nebo jiné realizace (vystoupení, koncerty, překlady krásné literatury apoezie atd.)
4.2.2. Hlavní přínos k umělecké činnosti v daném oboru (kupř. vytvoření nové technologie, stylu čizaložení školy)
4.2.3. Organizace významných akcí (workshopy, festivaly, symposia, výstavy atd.)
4.2.4. Recenze a jiné ohlasy na umělecká díla a tvůrčí činnost (katalogy výstav a dalšíchuměleckých akcí, monografie věnované uchazeči jako umělci, recenze v odborných časopisech atd.)
strana 9
4.3. Popularizující publikace
popularizující monografie
kapitoly v popul. monografiích
studie v nerecenz. časopisech a sbornících
recenze v tisku a nerecenz.časopisech
překlady
edice sborníků
články v tisku
české a slovenské cizojazyčné
5. Ostatní činnosti
5.1. Aktivní účast na mezinárodních vědeckých konferencích
5.1.1. Přednášející ve smyslu invited speaker (v příloze doložit zvacími dopisy nebo programy třínejvýznamnějších akcí)
2nd International Workshop on Scanning Probe Microscopy, Česká republika, Brno, 2002,invited speaker, STM experiments in ultra-high vacuum, zahraniční účast - A, 25.-26.3. 2002.
71st Annual Meeting (Deutschen Physikalischen Gesselschaft), Německo, Regensburg, 2007,invited speaker, Growing metals on silicon surfaces - STM study in-vivo, 26.-30. 3. 2007.
SPM workshop 2013, Česká republika, Lednice, 2013, invited speaker, Using STM forinvestigation of surface processes dynamics, zahraniční účast - A, 20.- 22. 3. 2013.
5.1.2. Jako organizátor konference, člen jejího přípravného výboru
5.1.3. Předseda sekce konference (chairman)
ECOSS 28, Polsko, Wroclaw, 2011, chairman, session: DIF - Surface diffusion and growth, 31.8.2011.
IVC-19, Francie, Paris, 2013, chairman, session: ASS-06 - Oxidation and corrosion, oxide filmsand insulating films, 11. 9. 2013.
5.2. Členství ve vědeckých nebo uměleckých radách
5.3. Členství v redakčních radách vědeckých časopisů
5.4. Významná ocenění za vědeckou činnost v oboru
5.5. Jiné
1983-dosud,JČMF
1986-dosud, ČFS (Česká fyzikami sekce)
2003-dosud, Česká vakuová společnost, člen revizní komise, zástupce CVS v ElectronicMaterials and Processes Division při IUVSTA
strana 10
6. Závěr stanoviska hodnotící komise
Odůvodnění a závěr
Na základě výše uvedených skutečností, doporučení zhraničních specialistů a referencí členůkomise, kteří uchazeče profesně znají, komise konstatovala, že doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc. je vesvém oboru v mezinárodním měřítku uznávanou osobností.
K přednostem doc. Ošťádal a patří rozvoj teoretických a technických znalostí v oblasti rastrovacítunelové mikroskopie (STM) a spektroskopie (STS) a jejich využití při návrhu, konstrukci, oživenía optimalizaci dvou zařízení STM/STS a využití těchto zařízení v systémech pro analýzu povrchůmateriálů a nanostruktur. Zformování první skupiny v ČR věnující se problematice STM již v 80-týchletech minulého století a později vytvoření pracoviště STM/STS, jehož se stal doc. Ošťádal vedoucím,je jeho velkou zásluhou. O jeho vědecké erudici svědčí i úspěšnost v získávání národních grantů (3GAČR, 3 GAUK) a žádosti o posuzování zahraničních publikací a grantových projektů.
Pedagogické schopnosti Ivana Ošťádala se projevují v mnoha podobách a úrovních. Běhemsvé výzkumné činnosti úspěšně vedl celou řadu diplomantů, doktorandů a mladých výzkumných
pracovníků, z nichž někteří se stali jeho kolegy, jiní pak zakotvili na renomovaných výzkumnýchpracovištích doma (např. FZÚ AVCR) nebo i v zahraničí (např. TU Vídeň). V posledních 5-ti letechvyučuje v následujících předmětech:
• Řádkovací mikroskopie-STM, AFM
• Metody fyziky povrchů a TV II
• Praktikum II pro obor Obecná fyzika
• Fyzika II. Elektřina a magnetismus
• Proseminář z elektrodynamiky
• Statistika a teorie informace ve fyzice
• Experimentální metody fyziky povrchů a plazmatu (Transmisní eí. mikroskop)
Na základě studentské ankety za letní semestr 2012/13 byla jeho přednáška "Fyzika II. Elektřinaa magnetismus" oceněna děkanem MFF UK jako nejlepší v základním kurzu fyziky na MFF UK. Odroku 2000 je členem oborové rady doktorského studijního programu fyzika, předsedou oborové radyF5 - fyzika povrchů a rozhraní a místopředsedou komise K7 pro obhajoby doktorských disertačníchprací.
Doc. Ošťádal je aktivním členem České fyzikální sekce JČMF a České vakuové společnosti,kde působí jako člen revizní komise a zástupce CVS v Electronic Materials and Processes Divisionpři IUVSTA.
Komise doporučuje jmenovat doc. RNDr. Ivana Ošťádala, CSc., profesorem v oboruFyzika - Fyzika povrchů a rozhraní.
šíraná 11
Výsledek hlasování hodnotící komisePočet přítomných
Hlasovalo pro ^
Hlasovalo proti ť)
Zdržel se ^
V Praze dne A.'- vTT s\„$/^
(jména a podpisy členů komise)
Předseda: prof. RNDr. Ladislav Skrbek, DrSc.
Členové: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc.
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc.
prof. RNDr. Vladimír Čech, Ph.D.
RNDr. Antonín Fejfar, CSc.
strana 12